1.中心加载力方式，一次性固定六个样品，完成全部研磨抛光过程，保证磨抛出各个样品的完整平面
2.独立控制磨抛盘和样品盘：转速、磨抛时间、转动方向、水阀关闭等全部磨抛参数；
3.触摸屏界面：磨抛参数设定方便，状态显示直观，操作简单；
4.加载力可以在运行中调整，灵活方便。
5.通过用电磁阀来控制水的通断。
6.轻松更换磁性防粘盘，就能完成各种试样的粗、精磨及粗、精抛光等所有工序, 一盘等效于N个盘。
7.精度高，运行平稳，噪音低。
8.样品磨去层厚度控制：精准控制样品的磨去量，磨到指定位置 (选配);
9.外部滴液器控制：外部滴液器的滴液速度及滴液材料 (选配);
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规格 |
WMP-1000X |
WMP-2000X |
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工位 |
单盘 |
双盘 |
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工作盘直径 |
标配φ254mm带有磁性转换盘系统 |
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磨盘转速 |
100-1000转/分 转向正反转可以切换 |
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研磨头转速 |
0-100r/min |
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制样时间范围 |
0-9999s |
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加载力范围 |
30-200N |
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加载力方式 |
中心加载 |
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样品夹持器 |
标配φ30mm六个（选配φ40-φ50mm四个，其余可定制） |
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电源 |
AC220V，50HZ |
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电机功率 |
0.75Kw |
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外形尺寸（长*宽*高） |
760 x 470 x 700 |
760 x 730 x 700 |
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重量 |
90kg |
120kg |
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